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平面研磨機(jī)研磨的不平整
手工研磨主要用于單件小批量生產(chǎn)和修理工作。手工研磨勞動(dòng)強(qiáng)度大并且要求操作者技術(shù)熟練,技藝水平高。機(jī)械研磨用于大批量生產(chǎn)中。
一、手工研磨

手工研磨一般采用一級(jí)平板,材質(zhì)為高碳鑄鐵材料


機(jī)械研磨
機(jī)械研磨是將工件放在旋轉(zhuǎn)的磨具上進(jìn)行研磨,磨具一般為圓形研磨盤。
機(jī)械研磨的磨盤材質(zhì)通常為鑄鐵,拋光盤為鋼盤、銅盤。絨面、綢面盤常用于拋光堆焊硬質(zhì)合金、銅合金、不銹鋼等密封環(huán)。

金屬研磨盤的表面必須平整,無瑕疵,平面度需要修整到0.05/1000mm以下。盤的半徑至少要設(shè)計(jì)成被加工工件直徑的兩倍以上。其直徑范圍一般為305~1620mm(16~64in),厚度大致是直徑的1/10~1/6。盤面開有溝槽!研磨機(jī)是機(jī)械密封制造行業(yè)中使用的研磨設(shè)備。它由床身、底座、減速箱體、研磨盤、控制環(huán)(亦稱擋圈或修正環(huán))、限位支承架等組成

研磨時(shí),工件放在控制環(huán)內(nèi),用塑料隔離環(huán)把工件均勻排布在控制環(huán)內(nèi),通過壓重施加研磨壓力,當(dāng)研磨盤旋轉(zhuǎn)時(shí)控制環(huán)在限位支承架內(nèi)旋轉(zhuǎn),工件除了自轉(zhuǎn)外還隨同控制環(huán)在研磨盤上公轉(zhuǎn),在磨料作用下,不斷研磨表面!


研磨盤的平而度和直線性,采用光隙量法檢查較為方便,且測量精度較高。檢查方法是:先將研磨盤被檢部位洗凈,并用溶劑擦去油膜,再將刀口尺的刀口與被檢平面接觸;在刀口尺的后面放一光源,然后從刀口 尺的前面觀察被檢平面與刀口之間的漏光間隙,可以由漏光間隙大小來確定,如果用塞尺檢查,一般應(yīng)小于0.02mm。


②控制環(huán)內(nèi)的工件之間的間隙要合適。間隙過大則造成研磨時(shí)工件互相撞擊產(chǎn)生劃傷或破裂,間隙過小則使工件不能隨控制環(huán)轉(zhuǎn)動(dòng),工件表面的每個(gè)點(diǎn)在研磨盤上的摩擦軌跡就會(huì)疏密不等,影響密封環(huán)的平面度,有時(shí)甚至?xí)构ぜ斊?,造成研磨表面偏斜。只有使工件在控制環(huán)中平穩(wěn)靈活的轉(zhuǎn)動(dòng),才能使工件在研磨盤上獲得均勻的摩擦軌跡,保證工件的加工質(zhì)量。


③做到研磨盤專盤專用。研磨機(jī)在使用中,注意保持清潔,特別是在拋光及研磨的后幾步工序中,因?yàn)榫信c拋光磨料粒徑不一樣,要防止精研的磨料帶入拋光研磨盤上,否則拋光時(shí)會(huì)出現(xiàn)劃道,因此要把拋光、精研加工分開,沒臺(tái)研磨機(jī)最好固定使用。拋光欠要將精研的工件清洗干凈,最好用超聲波清洗器清洗、晾干后再進(jìn)行拋光。


④采用水溶性研磨劑時(shí),要防止研磨盤表面生銹。此時(shí)每天工件結(jié)束時(shí),要將控制環(huán)從研磨盤上取出,將研磨盤洗干凈、吹干。第二天使用時(shí)要擦掉銹跡再使用。


⑤經(jīng)常清潔研磨機(jī)出料流道,防止堆積磨料溢流到減速箱軸承座內(nèi)。


⑥研磨劑要攪動(dòng)呈懸浮狀態(tài),以防堵塞電磁閥。